HY-PS13は、ウェハーのフォトレジスト剥離、洗浄、表面活性化専用のCCP真空プラズマシステムです。研究室や少量生産の半導体製造で広く利用されており、ポンプとガスモジュールを備えたステンレス製チャンバーは、接合、コーティング、薄膜プロセスにおける材料表面の密着性と親水性を向上させます。
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