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半導体バックグラインディング装置

1 検索結果 "半導体バックグラインディング装置"
  • Automatic 4–12 inch Hard Brittle Wafer Back Grinder
    IC生産ライン向け全自動超精密ウェハー裏面研削盤
    HY-ST3005は、4~12インチの硬くて脆い半導体基板に対応し、高精度な裏面薄膜化処理が可能です。 精度と長期安定性を向上させるために繰り返し改良された本装置は、高性能なコアアセンブリ(静圧式空気軸受研削スピンドル、高精度ウェーハスピンドル、高剛性大径回転テーブル)と高度な自動化機能を備え、シリコンおよび化合物半導体ウェーハの量産に対応します。
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