HY-EL25Hは、研究機関、企業の研究開発部門、小規模生産ラインなどで広く採用されている実験室用プラズマ処理システムです。容量結合プラズマ（CCP）放電技術を採用しています。システム全体は、角型ステンレス製真空チャンバー、プラズマ発生器、真空ポンプ、ガス入口・排気口で構成されています。本装置は、基板表面への密着性を効果的に高め、表面の親水性を向上させ、材料接合、コーティング、基板膜成膜、ウェーハ接合など幅広い用途に利用できます。半導体、マイクロ流体、新素材の研究プロジェクトにおいて、安定した再現性の高いプラズマ処理を実現します。
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